半導体デバイス製造に必要なプラズマクリーナー

スマートフォンなど半導体デバイスを製造するには、ごく微小な部品を洗浄する必要があります。パッケージへICチップを組み込む工程などで使われてきたプラズマクリーナーは、従来の工程だけではなく、複雑化し続けるICチップを高度なレベルで洗浄するために使用され始めているのが特徴です。これまでは、長い処理時間をかけて汚れを丁寧に取り除き、質を高めると言うニーズがほとんどでしたが、近年では、必要分だけクリーニングしながら、改質を可能にするプラズマクリーナーが求められています。プラズマクリーナーは、ガスプラズマの特性を利用し、クリーニングする対象物の表面にある汚れを取り除くのが主な能力です。

加えて、洗浄によってワイヤーボンディングの強度を上げたり、対象物表面に付着した有機物や無機物の除去を行ったりするほか、親水性を高められることで、対象物の表面を改質するなどの工程でも使用されます。プラズマクリーナーを販売するメーカによって機器のシステムは異なり、対象物や工程によって異なる種類のガスを選択できるクリーナーや、減圧状態を維持し、生成したプラズマで対象物の汚染物質と反応させてクリーニングさせるものなど、各メーカーの特徴もさまざまです。今後、ウェアラブル端末や人工知能など、トレンドとなるテクノロジーが益々必要とされる時代になり、デバイスの小型化や集積化はスピード感を持って進んでいくでしょう。プラズマクリーナーは、新時代のソリューションとしてデバイスの進化と伴い、更に高度なシステムが求められていきます。

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