プラズマ洗浄装置は生産性を高めます

半導体や電子デバイスなど精密機器の品質と生産性を向上させるために、プラズマ洗浄装置は不可欠な存在となっています。プラズマ洗浄装置は薬液を使わないドライ洗浄を行うため、環境に優しく効率的に微細な汚れを除去できるというメリットがあります。薬液を使用するウェット洗浄では、汚れを除去した後でリンスを使い薬液を洗い流さなければなりません。さらに製品を乾燥させる必要がありますが、ドライ洗浄を行うプラズマ洗浄装置ではそれらの工程が不要です。

高品質な製品を効率的に生産することができるため、様々な製造業の現場で使われています。プラズマ洗浄装置は大気圧から10Pa以下に減圧されたチャンバー内で、高周波電力によって電極間に印加しプラズマを発生させます。この装置にはアルゴン原子を使うRIEモードと、酸素分子を使うDPモードという2種類の処理方式が存在します。いずれの処理方式でもプラズマを利用して微細な汚れを除去する点は共通していますが、対象となる汚れの種類や浄化の仕組みに違いがあります。

RIEモードではアルゴンイオンと電子が発生し、軽い電子がイオンよりも先に下部電極に到達するとマイナス電圧とイオンシースが生じます。プラス電荷のアルゴンイオンはイオンシースで加速され、サンプルの表面に付着した有機物や無機物に衝突し弾き飛ばします。DPモードでは酸素分子が酸素原子となり、サンプル表面の有機物と化学反応を起こして水分子と二酸化炭素になります。水分子や二酸化炭素になった汚れを、真空ポンプで外部に排出して浄化する仕組みになっています。

コメントを残す

メールアドレスが公開されることはありません。 * が付いている欄は必須項目です