プラズマ洗浄装置が必要になるケースとは

プラズマ洗浄装置はプラズマクリーナーとも呼ばれており、ドライ洗浄によって微細な汚れを取り除きます。半導体などの精密機器を製造する工程では汚染や副生成物が生じるため、ドライ洗浄やウェット洗浄で取り除くことになります。ウェット洗浄は薬液を使うので、最後にリンスで薬液を洗い流して乾燥させなければなりません。プラズマ洗浄装置のようにドライ洗浄を行う場合には、薬液を使わないのでリンスを使う必要がなく乾燥の工程も省けます。

半導体などに付着した微細な汚れを低コストで素早く除去するために、プラズマ洗浄装置が役立っています。半導体以外にも電子デバイスや医療機器、レンズなどを製造する際にはプラズマ洗浄装置などで微細な汚れを取り除く必要があります。プラズマを使ってドライ洗浄を行うには、RIEモードとDPモードという2種類の処理方式が存在します。前者はアルゴンイオンを衝突させて物理的に汚れを除去しますが、後者は酸素原子を有機化合物と反応させて汚れを取り除きます。

半導体などの精密機器には有機物や無機物による様々な汚れが付着しますが、RIEモードの装置を使えば全ての汚れを物理的に除去することが可能です。DPモードは酸素原子と有機化合物の化学反応を利用し、汚れを二酸化炭素や水分子に変えます。二酸化炭素や水分子が真空ポンプで排出されることで、製品の表面に付着した有機物による汚れを除去できます。プラズマ洗浄装置には処理方式の違いによって異なるタイプがあるので、除去したい汚れの種類によって最適なものを導入することが大切です。

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