プラズマ装置の概要と仕組みについて

プラズマ装置とはプラズマクリーナーとも呼ばれるもので、通常洗浄の際に利用する水分を使わないで微細なほこりなどを除去する働きがあります。一例として半導体であるシリコンウエハを製造する際に利用されていて、レジストの剥離やポリイミド残渣をドライ洗浄とも呼ばれるプラズマ装置によって除去していきます。このように、特に半導体製造において非常に重要でなのです。素材や加工する目的に応じたいくつかの機器が用意されていて、それを組み合わせることで効果が高まります。

例えば低温環境で利用する必要があったり埃が入らないよう低圧環境下であったりの設計はもちろんのこと大規模製造や小規模製造、非常に小さな単位での製造などに合わせて設計していきます。プラズマ装置の処理方式には大きく2つの方式があって、1つ目はアルゴンプラズマ処理と呼ばれるものです。大気圧から10Paいかに減圧したチャンパーにアルゴン原子を導入して、電子の力で無機物や有機物を弾き飛ばすことでクリーニングする原理です。もう一つは酸素プラズマ処理と呼ばれるもので減圧下で行うことは同湯尾ですが、利用するのは酸素分子で化学反応によって分解されたりすることでクリーニングし廃棄していく仕組みです。

これは化学物質を分解するという工程が発生するため、無機物などには利用できません。まず検討の際は業者に問い合わせてデモンストレーションを申し込んでみると、導入の際の失敗はほぼなくなります。プラズマ装置のことならこちら

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