効果的に汚れを落とすプラズマ装置について

プラズマは物質の第4の状態と呼ばれており、分子がイオンと電子に分かれた状態のことです。物質にエネルギーを与え続けると固体から液体、気体からプラズマへと変化します。自然界ではオーロラや稲妻、太陽などが代表的な存在であり宇宙を構成する物質の99%以上がプラズマであるとされています。アルゴン原子や酸素分子を使ってプラズマを発生する過程で生じるイオンや原子を利用し、細かな汚れを除去するのがプラズマ装置です。

半導体や電子デバイスなどの精密機器を製造する過程では、様々な汚染や副生成物が生じます。微細な汚れを放置すると不良品が生じる原因となるので、何らかの方法で除去しなければなりません。微細な汚れを除去する方法には薬液を使用するウェット洗浄の他に、プラズマ装置などを使うドライ洗浄があります。ドライ洗浄は薬液を使わないため、汚れを除去した後で薬液を洗い流し乾燥させる工程が不要です。

プラズマ装置を使えば、短時間で半導体などの表面に付着した汚れを取り除くことができます。この装置にはアルゴン原子を使うRIEモードと、酸素分子を使うDPモードという2種類の処理方式があります。前者は有機物と無機物で構成された汚れに対してアルゴンイオンを衝突させて弾き飛ばします。後者は酸素原子が有機化合物と化学反応を起こし、水分子と二酸化炭素になります。

有機物と無機物による汚れを除去したい場合にはRIEモード、有機物による汚れを除去したい場合はDPモードを使うと効果的です。

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