プラズマ装置を使えば細かな汚れを除去できます

半導体やレンズ、電子デバイスなどの精密機器を製造するには微細な汚れを取り除く必要があります。細かな汚れを取り除く技術にはドライ洗浄とウェット洗浄がありますが、前者は薬液を洗い流して乾燥させる工程が不要です。ウェット洗浄は薬液を使って汚れを取り除くため、後からリンスで薬液を洗い流し乾燥させなければなりません。ドライ洗浄はウェット洗浄と比べて工程数が少ないので、生産性を向上させることができます。

プラズマ装置はプラズマを発生させる過程で生じるイオンや原子を使って汚れを除去します。ドライ洗浄を行う装置の一種であり、製品の品質と生産性を向上させるのに役立ちます。半導体など精密機器を製造する現場では、製造工程で発生した様々な汚れを取り除くためプラズマ装置が活躍しています。プラズマとは分子がプラス電荷のイオンとマイナス電荷の電子に分かれた状態のことで、物質の第四の状態とも呼ばれます。

物質にエネルギーを与え続けると固体から液体、気体と変化しやがてプラズマになります。プラズマ装置にはアルゴン原子を使うRIEモードと酸素分子を使うDPモードの2種類が存在します。前者はアルゴンイオンが物理的に有機物や無機物に衝突して弾き飛ばし、後者は酸素原子が有機物と化学反応を起こして水分子と二酸化炭素になります。対応可能な汚れの種類が異なるため、製造業の現場では状況に応じて使い分けられています。

RIEモードとDPモードの両方を備えたタイプのプラズマ装置は、切り替えができるので効率的です。

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