精密機器の製造に役立つプラズマ装置

半導体など精密機器を製造し短い納期で顧客に納品するためには、なるべく工程数を少なくする必要があります。精密機器の製造過程では様々な汚染や副生成物が生じますが、薬品を使うウェット洗浄には工程数が多くなるというデメリットが存在します。ウェット洗浄を行った場合には、後からリンスで薬液を洗い流し乾燥させなければなりません。プラズマ装置のようにドライ洗浄を行う場合には、薬液を洗い流して乾燥させる必要がないため工程数を少なくすることが可能です。

より短い納期で高品質な製品を納品するほど顧客からの評価が高まり売上の増加につながります。プラズマ装置はプラズマを発生させる過程で生じるイオンや原子を使い、精密機器の表面に付着した細かな汚れを取り除きます。この装置にはRIEモードとDPモードという2種類の処理方式があり、それぞれメカニズムや対応可能な汚れの種類が異なります。RIEモードはアルゴン原子が電離されてアルゴンイオンと電子になり、加速したアルゴンイオンを有機物や無機物に衝突させて弾き飛ばします。

プラズマとは分子がプラス電荷のイオンと、マイナス電荷の電子に分かれた状態のことです。気体にエネルギーを与え続けると分子が離脱して原子になり、原子核の周囲を回っていた電子が離れます。DPモードでは酸素分子から酸素原子が分かれ、精密機器の表面に付着している有機物と反応して水分子と二酸化炭素に変えます。RIEモードのプラズマ装置は物理的に有機物と無機物を除去しますが、DPモードのプラズマ装置は化学反応を利用して有機物を取り除くという特徴があります。

コメントを残す

メールアドレスが公開されることはありません。 * が付いている欄は必須項目です